特許

J-GLOBAL ID：200903002733087356

塗布膜形成装置及び塗布方法

発明者： 山本 暢
出願人/特許権者： 双葉電子工業株式会社
代理人 (1件)： 脇 篤夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-306570
公開番号（公開出願番号）：特開2001-121066
出願日： 1999年10月28日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：

【要約】【課題】 スラリーを回転させて塗布する場合、回転中心に隆起部ができることを防ぐ。【解決手段】 スラリーが滴下された基板の中心を塗布膜形成装置の回転中心とずらす機構を設け、スラリーを塗布するために塗布膜形成装置を回転させるときに、基板上のスラリーにまんべんなく遠心力を働かせ、均一な塗布膜を形成させる。

請求項（抜粋）：

スラリーを基板上に均一に塗布するための塗布膜形成装置において、回転台と該回転台上で基板フォルダ、基板を支持している基板フォルダと該基板フォルダの回転中心を上記塗布膜形成装置の回転台の回転中心から移動させる移動機構を備えていることを特徴とする塗布膜形成装置。

IPC (4件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 D

Fターム (17件)：

2H025AA18 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025CC15 ,  2H025EA05 ,  2H025FA41 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC92 ,  4D075DA08 ,  4D075DC21 ,  4F042AA07 ,  4F042EB08 ,  4F042EB12 ,  4F042EB19 ,  4F042EB29 ,  5F046JA02