短波長像形成用の溶媒およびフォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：千田稔 , 辻永和徳 , 橋本幸治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-582085
公開番号（公開出願番号）：特表2005-509180
出願日： 2002年03月15日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

短波長,特に157nmなどのサブ170nmの像形成に好適である新しいフォトレジストが提供される。本発明のレジストは、フッ素含有ポリマー、光活性成分、および溶媒成分を含んでなる。本発明のレジスト上での使用に好ましい溶媒は、このレジスト成分を溶液に維持し、1つ以上の、好ましくは2つ以上(すなわち、ブレンド)の溶媒を包含する。本発明の特に好ましい溶媒ブレンドにおいては、各ブレンド成分は実質的に等しい速度で蒸発し、それによりこのレジスト組成物は各ブレンド成分の実質的に一定の濃度を維持する。

請求項（抜粋）：

フッ素化樹脂、光活性成分、および溶媒成分を含んでなり、前記溶媒成分が少なくとも2つの明確に区別できる溶媒の混合物を含んでなり、前記明確に区別できる溶媒の1つはケトン部位を含有せず、メチルエチルケトンとクロロベンゼンからなる溶媒成分は除外されるフォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (10件)：

2H025AB16 , 2H025AC03 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17

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