特許

J-GLOBAL ID：200903002761265219

液晶表示素子の製造方法

発明者： 秦泉寺 哲 ,  内藤 温勝
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-237054
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101395
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】 基板上に液晶を滴下する製造方法において、紫外線で劣化・分解する液晶を用いた場合でも、表示均一性の高い液晶表示素子の製造方法を得る。【構成】 周辺を紫外線硬化型シール材3で囲まれた第1の電極基板1上に液晶4を滴下し、相対向する第2の電極基板2とを真空中で貼合わせ、マスク6及び特定波長以下の波長の紫外線をカットするフィルター7を通して紫外線を照射し、シール材3を硬化させる。

請求項（抜粋）：

第1の電極基板上に紫外線硬化型シール材を所定のパターンに形成する工程と、シール材で囲まれた基板表面に液晶を滴下する工程と、前記第1の電極基板に相対向する第2の電極基板にギャップ制御用のスペーサー設ける工程と、前記第1及び第2の電極基板を真空中で貼合わせる工程と、貼合わされた第1及び第2の電極基板に、所定のパターンを有するマスク及び特定波長以下の波長の紫外線をカットするフィルターを介して、紫外線を照射する工程とを具備する液晶表示素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/1339 505 ,  G02F 1/13 101

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-078728
  
• 特開平3-083012
  
• 特開昭58-182618
  
• 特開平4-338926