特許
J-GLOBAL ID:200903002766849758

領域の検出方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐々木 功 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-138276
公開番号(公開出願番号):特開平10-332332
出願日: 1997年05月28日
公開日(公表日): 1998年12月18日
要約:
【要約】【課題】複数の回路面が深さ方向に積層された半導体ウェーハ等において、赤外線を利用した撮像により、半導体ウェーハ等の内部から特定の領域を検出する。【解決手段】検出すべき領域の深さ方向の位置を予め記憶手段に記憶させておき、半導体ウェーハに赤外線を照射すると共に、記憶手段に記憶させた深さ方向の位置に焦点を合わせて撮像することによって所望の領域を検出する。
請求項(抜粋):
半導体ウェーハの内部に形成された検出すべき領域を赤外線によって撮像して検出する領域の検出方法であって、半導体ウェーハの種別によって前記検出すべき領域の深さ方向の位置を予め記憶手段に記憶させておき、該記憶手段に記憶させた位置に撮像手段の焦点を合わせて半導体ウェーハの所要位置を検出するようにした領域の検出方法。
IPC (2件):
G01B 11/00 ,  H01L 21/301
FI (2件):
G01B 11/00 H ,  H01L 21/78 C
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • マスク検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-168831   出願人:株式会社東芝
  • 特開平2-170279

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