特許
J-GLOBAL ID：200903002772190652
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-347522
公開番号（公開出願番号）：特開2006-165548
出願日： 2005年12月01日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】パターン中の人為結果の可視性を小さくするためのリソグラフィ装置が提供される。リソグラフィ装置は、照明システムと、パターン形成機器と、投影システムと、変調機器とを備えている。照明システムによって放射のビームが供給され、パターン形成機器によってビームがパターン形成される。投影システムによってビームが基板の目標部分に投射される。変調機器によってビームが変調され、変調スキームを備えたパターンが付与される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
放射のビームを供給する照明システムと、
前記ビームをパターン形成するパターン形成機器と、
前記ビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、
前記ビームを変調し、変調スキームを備えたパターンを付与する変調機器とを備えたリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 529
, G03F7/20 505
2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097BA10
, 2H097BB10
, 2H097CA17
, 2H097LA11
, 5F046BA07
, 5F046CA04
, 5F046CB01
