特許

J-GLOBAL ID：200903002772793179

レーザ加工装置

発明者： 小瀧 健一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-189114
公開番号（公開出願番号）：特開平9-029474
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【課題】 対物レンズ表面を汚染させることがなくレーザ光を良好な状態で被加工物に照射することができるレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 対物レンズ5により集光されたレーザ光L1を被加工物8に照射するレーザ加工装置において、対物レンズ5と被加工物8の間に設けられた対物レンズ保護プレート6を設け、対物レンズ5を介して対物レンズ保護プレート6を照明して撮像装置30で保護プレート6を撮像する。画像処理装置40は観察像を画像処理して保護プレート6の汚染状況を計測し、汚染が進んでいる場合、コンピュータ70は保護プレート6をホルダ10内の新しい保護プレート6’に交換するよう指示する。

請求項（抜粋）：

対物レンズにより集光されたレーザ光を被加工物に照射するレーザ加工装置において、前記対物レンズと前記被加工物の間に設けられた対物レンズ保護手段と、前記対物レンズを介して前記対物レンズ保護手段を観察する観察手段とを備えることを特徴とするレーザ加工装置。

IPC (3件)：

B23K 26/02 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06

FI (3件)：

B23K 26/02 C ,  B23K 26/00 M ,  B23K 26/06 Z