特許
J-GLOBAL ID:200903002776949718

光ファイバ母材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-082828
公開番号(公開出願番号):特開2000-272930
出願日: 1999年03月26日
公開日(公表日): 2000年10月03日
要約:
【要約】【課題】 スート割れや気泡発生のない大型の光ファイバ母材を確実にかつ安価に製造する。【解決手段】 OVD法による光ファイバ母材の製造方法において、バーナ3の原料ガス噴出口から噴出させる燃料ガスの流量を制御することによって堆積面の温度を950±100°Cとし、出発材2のトラバースの速度を制御することによりガラス微粒子の堆積層厚さを0.3mm以下にする。これにより、スート密度が0.8±0.2g/cm3となり、スート密度が低下することに起因するスート割れや、スート密度の差が大きくなることに起因する脱水・焼結時の気泡の発生を確実に防止して大型の光ファイバ母材が製造でき、しかもコストの低減化が図られる。
請求項(抜粋):
バーナに設けられた原料ガス噴出口と出発材とをこの出発材の長手方向に相対的に往復移動させながら上記原料ガス噴出口から原料ガス及び燃料ガスを出発材に向かって噴出させ、この原料ガスの酸水素火炎中での加水分解反応により生じたガラス微粒子を上記出発材の径方向に積層状態に堆積させて光ファイバ母材を製造する光ファイバ母材の製造方法において、上記ガラス微粒子の堆積層厚さが0.3mm以下となり、かつ、堆積面の温度が950±100°Cとなる条件で上記ガラス微粒子を堆積させて、ガラス微粒子堆積体の密度を0.8±0.2g/cm3にすることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
Fターム (3件):
4G021EA03 ,  4G021EB11 ,  4G021EB26

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