特許

J-GLOBAL ID：200903002782980775

NiO-CaTiO3 系セラミックの製造方法

発明者： 八木橋 和弘 ,  高橋 公雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-191444
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059335
出願日： 1994年08月15日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】 NiO-CaTiO3 系セラミックが還元されないようにHIP処理を行い、製造日数の短縮化、工程、設備の省略化を可能にする。【構成】 NiO-CaTiO3 系セラミック材料を0.5〜5%の酸素分圧の存在下で熱間静水圧プレス処理する。

請求項（抜粋）：

NiO-CaTiO3 系セラミック材料を0.5〜5%の酸素分圧の存在下で熱間静水圧プレス処理を施すことを特徴とするNiO-CaTiO3 系セラミックの製造方法。