特許

J-GLOBAL ID：200903002787709093

回転塗布装置及び回転塗布装置の洗浄方法

発明者： 高原 研一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-001799
公開番号（公開出願番号）：特開2001-191010
出願日： 2000年01月07日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、カップに付着した塗布液を確実に除去できる回転塗布装置および回転塗布装置の洗浄方法を提供することを目的とする。【解決手段】 この発明は、基板に塗布液を塗布するための回転塗布装置であって、基板を載置する回転台1と、回転台の周囲に設けられ、塗布液の飛散を防止するためのカップ3と、カップの内面を洗浄する洗浄機構と、カップに付着した塗布液を除去できるように、付着した塗布液に気体を吹き付ける吹き出し機構5とを備える。塗布液がカップ3の洗浄しにくい位置(10)に付着するとき、吹き出し機構は、付着した塗布液10に気体を吹き付けることによって洗浄機構により洗浄しやすい下方位置に移動させる。

請求項（抜粋）：

基板に塗布液を塗布するための回転塗布装置であって、前記基板を載置する回転台と、前記回転台の周囲に設けられ、前記塗布液の飛散を防止するためのカップと、前記カップに付着した前記塗布液を除去できるように、付着した前記塗布液に気体を吹き付ける吹き出し機構とを備える回転塗布装置。

IPC (5件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C

Fターム (15件)：

2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC88 ,  4D075DA08 ,  4D075DC22 ,  4F042AA07 ,  4F042EB05 ,  4F042EB09 ,  4F042EB24 ,  4F042EB25 ,  5F046JA05 ,  5F046JA07