特許
J-GLOBAL ID：200903002800588918

電気化学的水処理装置及び方法

発明者：
小池 紀夫

小池 紀夫 について


出願人/特許権者：
敷島機器株式会社

敷島機器株式会社 について


代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-299359
公開番号（公開出願番号）：特開平11-114571
出願日： 1997年10月15日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：
【要約】【目的】 従来の電解槽を使用する水処理では、被処理水の導入及び排出に伴う配管やエネルギーを必要とし、更に水漏れ対策や電解槽の設置スペースを必要としていた。本発明は、電解槽を使用する水処理におけるこれらの問題点を解消した水処理装置及び方法を提供することを目的とする。【構成】 1又は2以上の金属電極から成る電極構造体4をタンク7等の中の被処理水に浸漬して水処理を行なう。配管が不要で、電解槽を通過する際の圧力損失もないため、経済的に水処理を行なえる。
請求項（抜粋）：
触媒を担持した複数の金属基体を、ガスケットを介して積層し、その外周を電気絶縁性材料で固定し、これを被処理水中に浸漬して通電することにより前記被処理水の電気化学的殺菌を行なうことを特徴とする装置。
IPC (3件)：
C02F 1/46 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/46
FI (3件)：
C02F 1/46 Z ,  B01J 23/42 M ,  B01J 23/46 M
引用特許：
審査官引用 (5件)
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