特許
J-GLOBAL ID：200903002800907193
吸収剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山崎 行造 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093547
公開番号（公開出願番号）：特開平7-284657
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 吸収剤を用いて汚染された液状媒体から望ましくない物資を除去する。【構成】 吸収剤として(a),(b),(c)の少なくとも1つを含み(a)が、10%以上の自由液体を保有する、液状反応媒体におけるハイドロタルサイト様物質の製造から得られるハイドロタルサイト様物質であって(a)1吸収剤が乾燥重量ベースで、処理される液状媒体の容量の0.035 w/v%以下の量で存在するか又は(a)2乾燥された物質をx線回析により<001>方向において測定するとき130 オングストローム以下のハイドロタルサイト様物質の粒度を与えるような物質であり、(b)が、液状反応媒体におけるハイドロタルサイト様物質の製造から得られるハイドロタルサイト様物質を含み、(c)が汚染された液状媒体においてその場で(in-situ )ハイドロタルサイト様物質を生成することができる反応混合物より成る。
請求項（抜粋）：
処理される液状媒体に、少なくとも部分的に乾燥されていない吸収剤(a)、新たに製造された吸収剤(b)及びその場で作られた(in-situ )吸収剤(c)の少なくとも1つの吸収剤を添加することを含み、吸収剤(a)が、ハイドロタルサイト様物質において、自由液体を含むハイドロタルサイト様物質の重量に基づいて、10%以上の自由液体を保有させる、液状反応媒体におけるハイドロタルサイト様物質の製造から得られるハイドロタルサイト様物質を含み、(a)1吸収剤が乾燥重量ベースで、処理される液状媒体の容量の0.035w/v%以下の量で存在するか又は(a)2ハイドロタルサイト様物質の製造が、その後に乾燥された物質におけるx線回析により<001>方向において測定されたときに130 オングストローム以下のハイドロタルサイト様物質の粒度を与えるような製造であり、吸収剤(b)が、液状反応媒体におけるハイドロタルサイト様物質の製造から得られるハイドロタルサイト様物質を含み、反応媒体を実質的に除去することなく反応媒体に存在し、吸収剤(c)が処理される液状媒体においてその場で(in-situ )ハイドロタルサイト様物質を生成することができる反応混合物を含む、液状媒体からその中に存在する物質を除去するための液状媒体を処理する方法。
IPC (2件)：
B01J 20/08
, C02F 1/28 ZAB
