特許

J-GLOBAL ID：200903002802417754

ガラス基板熱処理方法およびその装置

発明者： 山口 岳人
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-235208
公開番号（公開出願番号）：特開平10-081546
出願日： 1996年09月05日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 種々の工程を経て、種々の膜および構造を有する被熱処理ガラス基板の表面温度を均一に加熱することのできるガラス基板熱処理方法およびその枚葉式ガラス基板熱処理装置の提供。【解決手段】 熱処理が必要な被熱処理物質が片面に塗布されているガラス基板と、該ガラス基板を載置してガラス基板の表面を均一に高温に加熱するホットプレート装置を用いてガラス基板を熱処理する方法において、前記塗布面を上にしてガラス基板をホットプレート上に載置し、ガラス基板とホットプレート間に間隙を設けるためのスペーサを用いることを特徴とするガラス基板熱処理方法。

請求項（抜粋）：

熱処理が必要な被熱処理物質が片面に塗布されているガラス基板と、該ガラス基板を載置してガラス基板の表面を均一に高温に加熱するホットプレート装置を用いてガラス基板を熱処理する方法において、前記塗布面を上にしてガラス基板をホットプレート上に載置し、該ガラス基板とホットプレート間に間隙を設けるためのスペーサを用いることを特徴とするガラス基板熱処理方法。

IPC (2件)：

C03C 21/00 102 ,  G02B 5/20 101

FI (2件)：

C03C 21/00 102 Z ,  G02B 5/20 101