特許
J-GLOBAL ID：200903002802717456
ウェハおよび露光マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-097625
公開番号（公開出願番号）：特開2004-304093
出願日： 2003年04月01日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】ウェハ-露光マスク間のギャップの補正を含むアライメント精度の向上を図ることが可能なウェハおよび露光マスクを提供する。【解決手段】近接露光の際の位置合わせ用の検査光を散乱させるエッジを備えた位置合わせマーク(ウェハマーク)を露光面に設けてなるウェハ11であって、ウェハマーク13は、所定方向xにドットパターン15を配列してなるドットパターン群15aを、ドットパターン15の配置間隔p1よりも広い配置間隔p2で所定方向xに配列してなることを特徴としている。また、同様の近接露光に用いる露光マスクであり、ウェハマーク13と同様の構成の位置合わせマークをマスクマークとして備えている。【選択図】 図1
請求項１：
近接露光の際の位置合わせ用の検査光を散乱させるエッジを備えた位置合わせマークを露光面に設けてなるウェハであって、
前記位置合わせマークは、所定方向にドットパターンを配列してなるドットパターン群を、当該ドットパターンの配置間隔よりも広い配置間隔で当該所定方向に配列してなる
ことを特徴とするウェハ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 510
, G03F1/08 D
, G03F1/08 N
2H095BA03
, 2H095BB02
, 2H095BE03
, 2H095BE08
, 5F046BA02
, 5F046EA09
, 5F046EB01
, 5F046EB02
