特許
J-GLOBAL ID:200903002806847770
非接触レーザーキャプチャ顕微解剖のための設計
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-587166
公開番号(公開出願番号):特表2002-532680
出願日: 1999年12月08日
公開日(公表日): 2002年10月02日
要約:
【要約】微小な近位のための装置およびプロセスが記載され、ここで、選択的活性化可能な表面は、活性化によって、組織サンプルから空間的に離されて、かつこの組織サンプルの近位に保持される。典型的な場合において、活性化は、熱的膨張する活性化可能な表面を有する物質へのレーザー照射によって生じ、所望の微小な近位をもたらす。開示される微小な近位決めは、組織サンプル上への局所的および微視的な圧力、組織サンプルへの挿入、あるいは組織サンプルへの活性化されたかまたは調製された表面の接触を生じ得る。
請求項(抜粋):
試験片からのレーザーキャプチャ顕微解剖のプロセスであって、該プロセスは、以下: 選択的活性化可能な層を提供する工程であって、活性化の際に、該選択的活性化可能な層が、該選択的活性化可能な層の表面に対して実質的に垂直にとられた、第1間隔を超える容量膨張の末端を有する該容量膨張を引き起こす、工程; 該第1間隔より小さな、限られた分離において、該試験片の上にある該選択的活性化可能な層を配置する、工程;および 該容量膨張の末端において、該試験片の部分を局所的に接触するために、少なくとも該第1間隔まで容量膨張を引き起こすために、該選択的活性化可能な層を選択的に活性化する工程、を包含する、プロセス。
IPC (6件):
G01N 1/28
, B25J 7/00
, B81C 5/00
, G01N 1/04
, G02B 21/06
, G02B 21/32
FI (6件):
B25J 7/00
, B81C 5/00
, G01N 1/04 G
, G02B 21/06
, G02B 21/32
, G01N 1/28 F
Fターム (8件):
2G052AA28
, 2G052AD12
, 2G052AD32
, 2G052BA21
, 2G052EC17
, 2H052AC34
, 2H052AF19
, 3C007BS30
引用文献:
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