特許
J-GLOBAL ID：200903002811607345

保護膜形成用組成物

発明者：
小笠原 昭二

小笠原 昭二 について

, 
遠藤 昌之

遠藤 昌之 について

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別所 信夫

別所 信夫 について


出願人/特許権者：
日本合成ゴム株式会社

日本合成ゴム株式会社 について


代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-258547
公開番号（公開出願番号）：特開平9-100338
出願日： 1995年10月05日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：
【要約】【目的】 表面が平坦でない基体であっても、当該基体上に、表面の平坦性の高い保護膜を形成することができる保護膜形成用組成物を提供すること。【構成】 (A)下記一般式(1)で表される構成単位を少なくとも20重量%含有してなり、かつ、ポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜10000である重合体または共重合体と、(B)多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物と、(C)有機溶剤とを含有してなることを特徴とする。【化1】〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基を示し、mは、1〜8の整数を示す。〕
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1)で表される構成単位を少なくとも20重量%含有してなり、かつ、ポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜10000である重合体または共重合体と、(B)多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物と、(C)有機溶剤とを含有してなることを特徴とする保護膜形成用組成物。【化1】〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基を示し、mは、1〜8の整数を示す。〕
IPC (4件)：
C08G 59/20 NHW ,  C08G 59/42 NHY ,  C09D163/00 PJK ,  G02F 1/1333 505
FI (4件)：
C08G 59/20 NHW ,  C08G 59/42 NHY ,  C09D163/00 PJK ,  G02F 1/1333 505
引用特許：
審査官引用 (4件)
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