特許

J-GLOBAL ID：200903002817652601

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-339432
公開番号（公開出願番号）：特開2004-170871
出願日： 2002年11月22日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度で、溶解コントラストに優れ、更に耐ドライエッチング性が良好なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定の繰り返し単位を組み合わせた、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A1)一般式(I)で示される繰り返し単位と一般式(II)及び一般式(IIId)から選択される少なくとも1つの繰り返し単位とをそれぞれ少なくとも1つずつ有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および (B)活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物、 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F7/039 ,  C08F16/12 ,  C08F32/04 ,  C08F32/08 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  C08F16/12 ,  C08F32/04 ,  C08F32/08 ,  H01L21/30 502R

Fターム (88件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  4J100AC22T ,  4J100AC24T ,  4J100AC25T ,  4J100AC26T ,  4J100AC27T ,  4J100AC31T ,  4J100AC34T ,  4J100AE01Q ,  4J100AE01S ,  4J100AE02S ,  4J100AE04S ,  4J100AE06S ,  4J100AE09Q ,  4J100AE09S ,  4J100AE35Q ,  4J100AE35S ,  4J100AL01T ,  4J100AL03T ,  4J100AL08T ,  4J100AL24T ,  4J100AL26T ,  4J100AL34T ,  4J100AL39T ,  4J100AL49T ,  4J100AM14T ,  4J100AM17T ,  4J100AM19T ,  4J100AP01T ,  4J100AR03P ,  4J100AR05P ,  4J100AR09P ,  4J100AR09R ,  4J100AR09T ,  4J100AR11P ,  4J100AR11R ,  4J100AR11T ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA20T ,  4J100BA22Q ,  4J100BA29T ,  4J100BA31T ,  4J100BA40P ,  4J100BA40R ,  4J100BA40S ,  4J100BA40T ,  4J100BB01P ,  4J100BB01S ,  4J100BB03P ,  4J100BB03S ,  4J100BB07P ,  4J100BB07R ,  4J100BB07S ,  4J100BB17S ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BB18T ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC04T ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07R ,  4J100BC07S ,  4J100BC07T ,  4J100BC08Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38