特許

J-GLOBAL ID：200903002823003526

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法及び電子装置の製造法

発明者： 粕谷 圭 ,  加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  新井 唯 ,  逆水 登志夫
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239111
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066775
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像度及びパターン形状が優れるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、解像度、パターン形状、作業性及び生産性が優れるレジストパターンの製造法並びに解像度、パターン形状、作業性及び生産性が優れる電子装置の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)少なくとも2種類のポリフェノ-ル化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、このポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜に活性化学線を照射し、次いで現像することを特徴とするレジストパターンの製造法並びにこのポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物を電子回路の回路形成面又は保護膜形成面に塗布乾燥し、得られた塗膜に活性化学線を照射し、次いで現像することを特徴とする電子装置の製造法。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)少なくとも2種類のポリフェノ-ル化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (28件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20 ,  2H096AA25 ,  2H096BA10 ,  2H096BA11 ,  2H096BA16 ,  2H096BA20 ,  2H096EA03 ,  2H096EA04 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA08