特許
J-GLOBAL ID：200903002828935397
2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-197476
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040596
出願日： 1995年08月02日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシトリフェニレン類を高収率、高純度で得ることができ、しかも工業的にも実施し易く、簡便で実用的な方法を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明の方法は、有機溶媒中で一般式【化1】〔式中R1及びR2は、同一又は異なって炭素数1〜10の飽和炭化水素基を示す。或いはR1及びR2は、メチレン鎖又はヘテロ原子を介して互いに結合して環を形成してもよい。〕で表される1,2-ジアルコキシベンゼンとハロゲン化第二鉄とを反応させることにより一般式【化2】〔式中R1及びR2は上記に同じ。〕で表される2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシトリフェニレン類を製造する方法である。
請求項（抜粋）：
有機溶媒中で一般式【化1】〔式中R1及びR2は、同一又は異なって炭素数1〜10の飽和炭化水素基を示す。或いはR1及びR2は、メチレン鎖又はヘテロ原子を介して互いに結合して環を形成してもよい。〕で表される1,2-ジアルコキシベンゼンとハロゲン化第二鉄とを反応させることを特徴とする一般式【化2】〔式中R1及びR2は上記に同じ。〕で表される2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法。
IPC (3件)：
C07C 43/20
, C07C 41/30
, C07D493/14
C07C 43/20 D
, C07C 41/30
, C07D493/14
