特許
J-GLOBAL ID:200903002830064158
逆浸透膜自動洗浄機構付逆浸透装置、および該装置を使用した純水の製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
川島 利和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-330320
公開番号(公開出願番号):特開2000-262868
出願日: 1999年10月18日
公開日(公表日): 2000年09月26日
要約:
【要約】【課題】 (1)導電率、微粒子数、エンドトキシン濃度などでモニターされる水質を向上させる、純水の製造効率を向上させる、(2)逆浸透膜の透水性能を保持し耐用年数を延長させる、(3)煩雑で膜の化学劣化を起こす薬液洗浄を不溶とする、もしくは頻度を減じる、(4)膜面でのバクテリアの繁殖を低減するなどの課題を解決した逆浸透膜自動洗浄機構付逆浸透装置、および純水の製造法を提供することにある。【解決手段】 逆浸透装置の原水負荷側に、該装置の運転中に逆浸透装置の逆浸透膜を純水により洗浄するための純水再循環機構を設けた逆浸透膜自動洗浄機構付逆浸透装置および該装置を使用した純水の製造法。
請求項(抜粋):
原水を逆浸透装置に供給する原水負荷ライン(a)、原水負荷ラインの逆浸透装置の上流側に設けた原水または純水を高圧にするために使用する手段(以下、液体加圧化手段とも言う)(b)、逆浸透膜を通過した純水と逆浸透膜を素通りした濃縮水に原水を分離する逆浸透膜を有する逆浸透装置(c)、一端を逆浸透装置に接続し、他端を前記原水負荷ラインに接続して再循環ループラインを形成する素通りライン(濃縮水ライン)(d)、前記素通りライン(濃縮水ライン)から分岐して形成された排水ライン(e)、前記原水負荷ラインと素通りライン(濃縮水ライン)とで形成された再循環ループライン(f)、逆浸透装置で製造された純水の貯留容器(g)、逆浸透装置で分離された純水の一部を原水負荷ラインに循環する純水還流ライン(h)、純水を純水タンクに供給する純水ライン(i)および前記前記純水ラインから分岐する初期抜水ライン(j)を少なくとも有して構成され、かつ原水の製造中において逆浸透装置の逆浸透膜を純水により清浄化できる自動洗浄機構付逆浸透装置。
IPC (4件):
B01D 61/08
, B01D 65/02 530
, B01D 65/08
, C02F 1/44
FI (4件):
B01D 61/08
, B01D 65/02 530
, B01D 65/08
, C02F 1/44 H
Fターム (24件):
4D006GA03
, 4D006GA05
, 4D006JA56A
, 4D006JA57A
, 4D006JA63A
, 4D006JA64A
, 4D006JA67A
, 4D006KA16
, 4D006KA63
, 4D006KC02
, 4D006KC13
, 4D006KE02Q
, 4D006KE07Q
, 4D006KE13P
, 4D006KE19P
, 4D006KE21Q
, 4D006KE22Q
, 4D006KE23Q
, 4D006KE24Q
, 4D006KE28Q
, 4D006PA01
, 4D006PB05
, 4D006PB06
, 4D006PC44
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平2-157086
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特開昭61-136404
-
特開平3-161088
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