基板処理装置及び基板処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-122076
公開番号（公開出願番号）：特開2002-319563
出願日： 2001年04月20日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】保持手段にほぼ水平に載置されて保持されるべき被処理基板の載置状態の良否について正確で信頼性の高い検査をおこなうこと。【解決手段】メカニカルチャック68は基板Gよりも一回り大きな矩形形状の板体からなり、そのチャック上面には、基板Gをほぼ水平に載置するための手段たとえば同じ高さの多数の支持ピン70が適当な配置パターンで離散的に固定取付されるとともに、基板Gの四隅の角部を両側面で保持するための手段たとえば保持ピン72が固定取付されている。メカニカルチャック68に基板Gが正しく(ほぼ水平に)載置されているか否かを検査するために、カップ64の周囲に所定の高さ位置で互いに水平に対向する発光素子102および受光素子104の対または組を複数たとえば2組(102(1),104(1)),(102(2),104(2))設けられている。

請求項（抜粋）：

ほぼ水平な載置部を有し、前記載置部に被処理基板を載置して保持する保持手段と、前記保持手段の載置部に前記基板が実質的に水平状態で載置されているか否かを光学的に検査するための基板載置状態検査手段とを有する基板処理装置。

IPC (9件)：

H01L 21/304 644 , H01L 21/304 , B05C 11/00 , B05C 11/08 , B05D 1/40 , B65G 49/06 , G02F 1/13 101 , H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (9件)：

H01L 21/304 644 E , H01L 21/304 644 F , B05C 11/00 , B05C 11/08 , B05D 1/40 A , B65G 49/06 Z , G02F 1/13 101 , H01L 21/68 N , H01L 21/30 563

Fターム (45件)：

2H088FA18 , 2H088FA21 , 2H088FA25 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 4D075AC65 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EA45 , 4F042AA01 , 4F042AB00 , 4F042BA08 , 4F042CA01 , 4F042CB03 , 4F042CC01 , 4F042DA01 , 4F042DB01 , 4F042DB41 , 4F042DF09 , 4F042DF11 , 4F042DF15 , 4F042DF29 , 4F042DF32 , 4F042EB09 , 4F042EB13 , 4F042EB18 , 4F042EB21 , 5F031CA04 , 5F031HA08 , 5F031HA13 , 5F031HA56 , 5F031JA02 , 5F031JA17 , 5F031JA25 , 5F031JA30 , 5F031KA02 , 5F031MA33 , 5F031PA14 , 5F046JA10 , 5F046JA16 , 5F046LA05 , 5F046LA08

引用特許：

審査官引用 (10件)

回転式基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-141270 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板乾燥装置および基板洗浄乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-265891 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-340773

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