低比表面積シリカゲル及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：塩澤寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-025279
公開番号（公開出願番号）：特開平7-237917
出願日： 1994年02月23日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【目的】醸造物等の濾過剤として有用な、吸着性能と濾過性とに優れたシリカゲル及びその製造方法の提供。【構成】 BET比表面積が50〜300m2 /gであり、かつメジアン細孔径が8〜200Åであるシリカゲル。好ましくは、細孔容積が0.1〜2.5cc/gであり、かつ平均2次粒子径が1〜200μmである。このシリカゲルは、シリカヒドロゲルをケイフッ化マグネシウム等のフッ素化合物で処理することにより得られる。

請求項（抜粋）：