特許

J-GLOBAL ID：200903002848219353

電子写真感光体の製造方法

発明者： 布施 晃広
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079495
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275882
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 アモルファスシリコン(a-Si)系電子写真感光体をプラズマ溶射法によって製造する。【解決手段】 導電性基体上に光導電層を設けた電子写真感光体の製造方法において、該光導電層をシリコンを含むガスを主原料としてプラズマ溶射法により形成する。

請求項（抜粋）：

導電性基体上にアモルファスシリコンを主成分とする光導電層を形成した電子写真感光体の製造方法において、該光導電層をシリコンを含むガスを主原料としプラズマ溶射法により形成することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。

IPC (5件)：

G03G 5/08 360 ,  G03G 5/08 313 ,  G03G 5/08 314 ,  G03G 5/08 315 ,  G03G 5/08 316

FI (5件)：

G03G 5/08 360 ,  G03G 5/08 313 ,  G03G 5/08 314 ,  G03G 5/08 315 ,  G03G 5/08 316

Fターム (11件)：

2H068DA25 ,  2H068DA26 ,  2H068DA27 ,  2H068DA28 ,  2H068DA29 ,  2H068EA02 ,  2H068EA15 ,  2H068EA24 ,  2H068EA33 ,  2H068FA12 ,  2H068FA25