特許
J-GLOBAL ID：200903002849014755

ガス精製方法及び装置

発明者：
藤江 和彦

藤江 和彦 について

, 
川井 雅人

川井 雅人 について


出願人/特許権者：
大陽日酸株式会社

大陽日酸株式会社 について


代理人 (1件)： 木戸 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-246133
公開番号（公開出願番号）：特開2005-021891
出願日： 2004年08月26日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：
【課題】 各種ガス中に含まれる一酸化炭素、窒素、アンモニア、三フッ化窒素、二酸化炭素、メタン、水素、酸素等の微量不純物を選択的にppmレベル以下まで吸着除去して超高純度のガスを得ることができる吸着剤を使用したガス精製方法及び装置を提供する。【解決手段】 一酸化炭素、窒素、アンモニア、三フッ化窒素、二酸化炭素、メタン、水素及び酸素の少なくとも1種を微量不純物として含む精製対象ガスを、銅イオン交換したZSM-5型ゼオライトからなる吸着剤に常温で接触させて前記微量不純物を前記精製対象ガス中から1ppm以下にまで除去することにより、精製対象ガスの純度を99.9999容量%以上にする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
一酸化炭素、窒素、アンモニア、三フッ化窒素、二酸化炭素、メタン、水素及び酸素の少なくとも1種を微量不純物として含む精製対象ガスを、銅イオン交換したZSM-5型ゼオライトからなる吸着剤に常温で接触させて前記微量不純物を前記精製対象ガス中から1ppm以下にまで除去することにより、精製対象ガスの純度を99.9999容量%以上とすることを特徴とするガス精製方法。
IPC (5件)：
B01D53/02 ,  B01D53/04 ,  B01J20/18 ,  B01J20/30 ,  C01B23/00
FI (6件)：
B01D53/02 Z ,  B01D53/04 F ,  B01J20/18 D ,  B01J20/30 ,  C01B23/00 H ,  C01B23/00 P
Fターム (17件)：
4D012BA02 ,  4D012CA03 ,  4D012CA05 ,  4D012CA07 ,  4D012CA20 ,  4D012CE03 ,  4D012CF05 ,  4G066AA61B ,  4G066AA62B ,  4G066CA27 ,  4G066CA32 ,  4G066CA35 ,  4G066CA37 ,  4G066CA38 ,  4G066CA51 ,  4G066DA05 ,  4G066GA01
引用特許：
審査官引用 (5件)
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