特許
J-GLOBAL ID:200903002858947829

液晶表示素子用透明導電層の修正法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-198038
公開番号(公開出願番号):特開平6-043470
出願日: 1992年07月24日
公開日(公表日): 1994年02月18日
要約:
【要約】【目的】液晶表示素子の製造歩留りが向上して製造コストが低減する【構成】透明基板上に薄膜形成法により透明導電層を形成した後に透明導電層内の異物の有無を確認し、異物があった場合に透明導電層の異物含有領域に透明導電層用のエッチング液を滴下するか、もしくはレーザー光を照射して、その異物を除去するとともに透明導電層に非成膜領域を成し、然る後に非成膜領域に所定形状のマスクを用いた薄膜形成法により透明導電層を形成する液晶表示素子用透明導電層の修正法。
請求項(抜粋):
透明基板上に薄膜形成法により透明導電層を形成した後に該透明導電層内の異物の有無を確認し、異物があった場合に透明導電層の異物含有領域に透明導電層用のエッチング液を滴下するか、もしくはレーザー光を照射して、その異物を除去するとともに透明導電層に非成膜領域を成し、然る後に該非成膜領域に所定形状のマスクを用いた薄膜形成法により透明導電層を形成する液晶表示素子用透明導電層の修正法。
IPC (2件):
G02F 1/1343 ,  G01M 11/00

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