特許
J-GLOBAL ID：200903002864718904
光学薄膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-067931
公開番号（公開出願番号）：特開平7-248415
出願日： 1994年03月10日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【目的】 生産性、耐久性、光学特性に優れた光学薄膜を低コストで得る。【構成】 金属ターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性DCマグネットロンスパッタリング法により高屈折率層を形成し、Siターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性RFマグネトロンスパツタリング法により低屈折率層を形成して、光学薄膜を製造する。
請求項（抜粋）：
金属ターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性DCマグネトロンスパッタリング法により高屈折率層を形成し、Siターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性RFマグネトロンスパッタリング法により低屈折率層を形成することを特徴とする光学薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/28
, C23C 14/08
, C23C 14/34
, G02B 1/11
