特許
J-GLOBAL ID：200903002867738116
プラズマ・アドレス指定装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234140
公開番号（公開出願番号）：特開平6-222344
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【構成】 第1基板64から突出する島状部60の各々は、導電層130が形成された平坦な比較的大きな上面を有し、略平行な島状部行62に配列される。網状溝110は、隣接する島状部行間に配置された細長い溝124aと、各行内の個々の島状部間に延びる枝状溝124bとを有する。第2基板66に形成された列電極58及び島状部行の重畳部分は、データ素子を形成する。第1及び第2基板間には電気光学材料層68が間挿され、層68及び第1基板間にはイオン化可能ガスが収容する。【効果】 島状部の上面は、電気光学材料層及び第2基板等の構成要素を支持するために比較的に大きな表面積を有するので、支持される構成要素が影響される曲がりの問題が解決される。
請求項（抜粋）：
導電膜が形成された上面を有し、互いに離間され複数の行に配列された複数の島状部が主面から突出する第1基板と、該複数の島状部の行間に沿って延びる第1溝及び該第1溝から上記島状部の各行内の隣接する島状部間に延びる第2溝を有する網状溝と、該網状溝の上記第1溝内に形成された電極と、主面に上記第1基板上の上記島状部の行と交差する複数の列電極が形成された第2基板と、上記第1及び第2基板間に間挿され、上記島状部及び上記列電極の重畳部分にデータ素子を形成する材料層と、該材料層及び上記第1基板間に収容されたイオン化可能なガスとを具えることを特徴とするプラズマ・アドレス指定装置。
IPC (3件)：
G02F 1/1333
, G09G 3/20
, H01J 17/49
