特許
J-GLOBAL ID：200903002871047799
抵抗器およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-273183
公開番号（公開出願番号）：特開平10-125502
出願日： 1996年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：
【要約】【課題】 特性変化が小さいとともに、量産性に優れた抵抗器およびその製造方法を提供するものである。【解決手段】 基体1の表面に第1の酸化金属皮膜2、第1の酸化金属絶縁皮膜3、第2の酸化金属皮膜4、第2の酸化金属絶縁皮膜5、第3の酸化金属皮膜6をこの順に設けるものである。
請求項（抜粋）：
基体と、前記基体を覆うように設けられた第1の酸化金属皮膜と、前記第1の酸化金属皮膜を覆うように設けられた第1の酸化金属絶縁皮膜と、前記第1の酸化金属絶縁皮膜を覆うように設けられた前記第1の酸化金属皮膜より比抵抗値が小さい第2の酸化金属皮膜と、前記第2の酸化金属皮膜を覆うように設けられた第2の酸化金属絶縁皮膜と、前記第2の酸化金属絶縁皮膜を覆うように設けられた前記第2の酸化金属皮膜より比抵抗値が大きい第3の酸化金属皮膜とからなる抵抗器。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01C 7/00 A
, H01C 17/06 M
