特許
J-GLOBAL ID：200903002872555798
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-313783
公開番号（公開出願番号）：特開2007-123559
出願日： 2005年10月28日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：
【課題】ノズル内部の洗浄を行うことが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することである。【解決手段】基板処理部は、基板Wを水平に保持するとともに基板Wの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Wを回転させるためのスピンチャック21を備える。スピンチャック21の内部には、処理液供給管が挿通されている。処理液供給管には、薬液または純水が供給される。処理液供給管の先端には、鉛直上方に向けて薬液または純水を吐出する下部ノズル27が設けられている。薬液処理用ノズル50の吐出口が下部ノズル27の吐出口に対向する状態で、下部ノズル27から薬液処理用ノズル50の先端部に向けてノズル洗浄液としての純水が吐出される。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板上に処理液を供給する処理液供給口を有する処理液ノズルと、
前記処理液ノズルの処理液供給口に向けて下方からノズル洗浄液を吐出する洗浄液ノズルとを備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304
, H01L 21/027
H01L21/304 643Z
, H01L21/30 569C
, H01L21/304 643A
5F043EE08
, 5F043EE27
, 5F046LA04
