特許
J-GLOBAL ID：200903002874655463
触媒の調製方法およびエポキシ化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-526523
公開番号（公開出願番号）：特表2003-510314
出願日： 2000年08月08日
公開日（公表日）： 2003年03月18日
要約：
【要約】バナジウムもしくはチタンシリカライトのスラリーをイオン交換可能な貴金属錯体と接触させることにより、エポキシ化触媒を調製し、その触媒を乾燥またはか焼することなく、O2、H2、およびオレフィンと接触させることにより、オレフィンのエポキシ化に使用する。
請求項（抜粋）：
貴金属を含有するチタンもしくはバナジウムシリカライトとの接触で、O2、H2、およびオレフィンを反応させることによってオレフィンをエポキシ化する方法において、 可溶性のイオン交換可能な貴金属錯体を、液体溶媒中でスラリーにした固体のチタンもしくはバナジウムシリカライトと接触させること、および、 得られた触媒を乾燥またはか焼することなく、前記触媒を反応条件でO2、H2、およびオレフィンと接触させることを含む改良。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4C048AA01
, 4C048BB02
, 4C048CC01
, 4C048UU03
, 4C048XX02
, 4C048XX05
