特許
J-GLOBAL ID：200903002879147415
インクジェットヘッドのノズルプレート製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-244688
公開番号（公開出願番号）：特開2001-063067
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：
【要約】【課題】 インクジェットヘッドのノズルプレートを効率的に、かつ歩留良く製造する方法を提供する。【解決手段】 導電性基板401の表面のうちアライメント領域以外の部分に凹凸411を形成する工程、基板上に第1の感光性有機膜402を形成する工程、第1のマスク部材403を用いて行う感光性有機膜402の露光工程(第1の露光工程)、感光性有機膜402上に第2の感光性有機膜405を形成する工程、第2のマスク部材406のアライメントマークと、第1の露光工程で形成された感光性有機膜402上のアライメントマーク404aとを位置合わせした後、マスク部材406を用いて行う第2の露光工程、感光性有機膜402,405を現像して積層有機膜パターン408を形成する工程、有機膜パターン408に沿って基板401表面に金属膜409を堆積する工程、金属膜409上に撥水性膜410を形成する工程ならびに、有機膜パターン408および基板401を除去する工程を、この順に行う。
請求項（抜粋）：
表面が導電性材料からなる基板の前記表面の適宜箇所を露光マスクに対するアライメント領域となし、それ以外の表面部分に凹凸を形成し、前記基板表面に第1の感光性有機膜を形成した後、第1の露光工程において第1のマスク部材のアライメントマークを前記第1の感光性有機膜に転写し、該感光性有機膜上に第2の感光性有機膜を積層形成した後、前記第1の感光性有機膜に転写されたアライメントマークと第2のマスク部材とのアライメントと、その後の第2の露光工程と、さらにその後の現像工程とによりノズル孔形成用の積層有機膜パターンを形成し、前記基板の表面に金属膜を形成するとともに、前記積層有機膜パターンのうちその頂部を除く部分を前記金属膜で被覆した後、前記基板および前記積層有機膜パターンを除去することにより、前記金属膜からなるノズルプレート本体を貫通するノズル孔を形成することを特徴とするインクジェットヘッドのノズルプレート製造方法。
Fターム (12件)：
2C057AF23
, 2C057AF30
, 2C057AF42
, 2C057AF93
, 2C057AG05
, 2C057AP02
, 2C057AP13
, 2C057AP37
, 2C057AP38
, 2C057AP47
, 2C057AP60
, 2C057AQ06
