実質的に連続した放射線検出ゾーンを備えたエックス線断層撮影システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡部正夫 (外13名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-508810
公開番号（公開出願番号）：特表2000-505673
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】エックス線源と、ほぼ直線状配列(34)にグループ分けした複数のエックス線検出器クリスタルを含み、エックス線源と連携するエックス線検出器アセンブリとを備えるエックス線走査システムにおいて、エックス線源から射出され、検出器アセンブリを通過する放射線が、ほぼすべて少なくとも1つの検出器クリスタルの少なくとも一部を通過するように検出器配列を位置決めすることにより、実質的に連続した放射線検出ゾーンを形成する。検出器配列は、焦点から延びる半径方向の直線(42)に名目上垂直な方向に対して、あらかじめ選択した角度αだけ傾斜させてあり、したがって、配列内の隣接検出器クリスタル間の空間は、エックス線源から射出するエックス線と整列しない。角度αは、検出器クリスタルの形状および配列内の隣接クリスタル間の空間によって決まる。

請求項（抜粋）：

(a)放射線ビームが射出される焦点を定めるエックス線源と、(b)回転軸の回りを回転するようにエックス線源を支持する手段と、(c)前記エックス線源と連携する複数のエックス線検出器を含み、焦点から検出器すべてに達する放射線ビームを画成するエックス線検出器アセンブリとを含む形式のエックス線走査システムであって、前記焦点に対する前記検出器の位置決め、および前記検出器相互の位置決めを行って、前記放射線ビーム内に実質的に連続した放射線検出ゾーンを形成する手段をさらに含み、前記検出器アセンブリを通過する前記ビーム内の放射線のほぼすべてが、少なくとも1基の検出器の少なくとも一部を通過するエックス線走査システム。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭53-033680
特開昭60-002240

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