特許
J-GLOBAL ID:200903002884219491

電磁場印加水処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-038499
公開番号(公開出願番号):特開2000-237754
出願日: 1999年02月17日
公開日(公表日): 2000年09月05日
要約:
【要約】【課題】 電極に孔食が発生せず、酸化物の堆積が少なく、電解抵抗の少ない電磁場印加水処理装置を得る。【解決手段】 通水路に面して対向して配置されている互いに異種金属よりなる対の電極1a,1bと、該電極間方向と直行する方向に配置されている磁場発生手段2a,2bとを有し、電場と磁場を併用して通水路に微弱電流を流して水処理を行う電磁場印加水処理装置において、前記電極の陽極1bを、孔食電位がない電極材とした。
請求項1:
通水路に面して対向して配置されている互いに異種金属よりなる対の電極(1a,1b)と、該電極間方向と直行する方向に配置されている磁場発生手段(2a,2b)とを有し、電場と磁場を併用して通水路に微弱電流を流して水処理を行う電磁場印加水処理装置において、前記電極の陽極(1b)は、孔食電位がない電極材であることを特徴とする電磁場印加水処理装置。
IPC (3件):
C02F 1/48 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00
FI (4件):
C02F 1/48 A ,  C02F 1/48 B ,  C02F 5/00 610 A ,  C02F 5/00 610 B
Fターム (13件):
4D061DA05 ,  4D061DB05 ,  4D061EA02 ,  4D061EA18 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB31 ,  4D061EC01 ,  4D061EC07 ,  4D061EC18
引用特許:
審査官引用 (2件)

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