特許

J-GLOBAL ID：200903002888465020

短連鎖う蝕菌培養用培地

発明者： 亀井 明仁 ,  河村 達朗
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-067878
公開番号（公開出願番号）：特開2002-262857
出願日： 2001年03月09日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】【課題】 連鎖う蝕菌の短い連鎖数の菌鎖が主となる標品を作製するための培地を提供する。【解決手段】 短連鎖う蝕菌培養用培地であって、基礎培地および緩衝剤を含み、この緩衝剤がこの培地に付加されて、培養時のpH変化が、pH6.0〜8.0の間となるようにこの培地に緩衝能を与える培地。

請求項（抜粋）：

短連鎖う蝕菌培養用培地であって、基礎培地および緩衝剤を含み、該緩衝剤は、培養時のpH変化が、pH6.0〜8.0の間となるように該培地に緩衝能を与える量で、該培地に付加される、短連鎖う蝕菌培養用培地。

IPC (3件)：

C12N 1/00 ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:46

FI (4件)：

C12N 1/00 F ,  C12N 1/20 A ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:46

Fターム (5件)：

4B065AA49X ,  4B065AC20 ,  4B065BB31 ,  4B065BB38 ,  4B065BC02