特許

J-GLOBAL ID：200903002900101471

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  藤島 浩晃 ,  宮 芳子 ,  武元 一樹
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-285195
公開番号（公開出願番号）：特開平10-133375
出願日： 1996年10月28日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 酸の作用で脱離する保護基として1-エトキシエチル基を有する樹脂を用いた化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、高感度および高解像度で、基板への接着性および露光後の引き置き経時安定性に優れるものを提供する。【解決手段】 (A)エチレン性不飽和結合を有するエステル系の化合物から導かれる重合単位を有し、そのエステルの少なくとも一部が1-エトキシエチルエステルである樹脂、および(B)下式(I)、(II)、(III) または(IV)で示される化合物(Rはアルキル、脂環式炭化水素基、アリール、アラルキルなど)から選ばれる酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)エチレン性不飽和結合を有するエステル系の化合物から導かれる重合単位を有し、該エステルの少なくとも一部が1-エトキシエチルエステルである樹脂、および(B)下式(I)、(II)、(III) または(IV)(式中、Rは、アルコキシ、ハロゲンもしくはニトロで置換されていてもよいアルキル基、脂環式炭化水素残基、アリール基、アラルキル基またはカンファー基を表す)で示される化合物群から選ばれる酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R