特許
J-GLOBAL ID:200903002900581341
走査レーザビームのビーム径測定装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野田 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-032837
公開番号(公開出願番号):特開2001-221614
出願日: 2000年02月10日
公開日(公表日): 2001年08月17日
要約:
【要約】【課題】 走査レーザビームのビーム径を低コストで、かつ効率よく測定する。【解決手段】 照射制御手段がレーザビームの走査に同期してレーザ光源をオン・オフ制御する結果、CCD18の撮像面20に光スポットが間隔をおいて形成される。光スポット34、36、38、40においては、隣接する2つの光スポットは、列の方向30に対して、それぞれ光センサ22の配列ピッチLPの1/4だけずれた状態で光センサ22上に位置していることになる。演算装置は、これら4つの光スポットに対応する各光センサの画素値に基づいて光センサの配列ピッチが1/4となった場合に相当する画素値を演算し、これら演算された画素値に基づいて光スポットを合成し、この合成された光スポットの大きさを算出し、この算出結果を前記レーザビームの径として出力する。
請求項(抜粋):
一定方向に走査されるレーザビームのビーム径を測定する装置であって、撮像面に多数の光センサを行および列を成してマトリクス状に配列した撮像素子を含み、前記レーザビームが前記撮像素子の前記撮像面に入射して前記撮像面上に光スポットを形成する撮像装置と、前記レーザビームの、前記撮像面に対する照射、非照射を制御する照射制御手段とを備え、前記光センサの前記行の方向と前記レーザビームの走査方向とは鋭角を成し、前記照射制御手段は、前記レーザビームの走査に応じ前記レーザビームを間欠的に照射して前記撮像面上に複数の前記光スポットを間隔をおいて形成するように前記レーザビーム照射の時間間隔を制御するように構成され、前記照射制御手段による前記時間間隔の制御は、前記光スポット間の距離が前記光センサの前記行の方向において前記光センサの配列ピッチの非整数倍の長さとなり、かつ、前記列の方向において前記光センサの配列ピッチの整数倍となるように前記レーザビーム照射における時間間隔を設定する第1の制御と、前記光スポット間の距離が前記光センサの前記列の方向において前記光センサの配列ピッチの非整数倍の長さとなり、かつ、前記行の方向において前記光センサの配列ピッチの整数倍となるように前記レーザビーム照射における時間間隔を設定する第2の制御とを含む、ことを特徴とする走査レーザビームのビーム径測定装置。
IPC (4件):
G01B 11/08
, B41J 2/44
, G06T 1/00
, H04N 1/036
FI (4件):
G01B 11/08 H
, H04N 1/036 Z
, B41J 3/00 D
, G06F 15/62 380
Fターム (52件):
2C362AA20
, 2F065AA17
, 2F065AA19
, 2F065AA26
, 2F065AA51
, 2F065BB29
, 2F065CC00
, 2F065DD02
, 2F065DD06
, 2F065FF04
, 2F065GG04
, 2F065GG08
, 2F065HH04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065LL10
, 2F065LL14
, 2F065LL62
, 2F065MM16
, 2F065NN02
, 2F065PP01
, 2F065QQ03
, 2F065QQ17
, 2F065QQ21
, 2F065QQ25
, 2F065QQ27
, 2F065QQ28
, 2F065QQ34
, 2F065QQ42
, 2F065RR08
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC01
, 5B057CE08
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC03
, 5B057DC06
, 5B057DC23
, 5C051BA03
, 5C051CA07
, 5C051DA06
, 5C051DB01
, 5C051DB02
, 5C051DB30
, 5C051DE02
, 5C051DE29
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