特許
J-GLOBAL ID：200903002907799326

金属修飾アパタイト含有膜の形成方法、これに用いられるコーティング液、および金属修飾アパタイト含有膜で被覆された部位を有する電子機器

発明者：
安曽 徳康

安曽 徳康 について

, 
若村 正人

若村 正人 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-146110
公開番号（公開出願番号）：特開2003-334883
出願日： 2002年05月21日
公開日（公表日）： 2003年11月25日
要約：
【要約】【課題】 金属修飾アパタイトの有する抗菌作用または防汚作用などを充分に発揮しつつ透明性に優れている金属修飾アパタイト含有膜の形成方法、これに用いられるコーティング液、および、そのような金属修飾アパタイト含有膜で被覆された部位を有する電子機器を提供すること。【解決手段】 金属修飾アパタイト含有膜の形成方法において、粉末状の金属修飾アパタイトと無機コーティング液材とを含んで金属修飾アパタイトの含有率が0.01〜5wt%である金属修飾アパタイト含有コーティング液を、基材に対して塗布することとする。
請求項（抜粋）：
粉末状の金属修飾アパタイトと無機コーティング液材とを含んで前記金属修飾アパタイトの含有率が0.01〜5wt%である金属修飾アパタイト含有コーティング液を、基材に対して塗布することを特徴とする、金属修飾アパタイト含有膜の形成方法。
IPC (4件)：
B32B 9/00 ,  B01J 35/02 ,  C09D 1/00 ,  C09D 7/12
FI (4件)：
B32B 9/00 A ,  B01J 35/02 J ,  C09D 1/00 ,  C09D 7/12
Fターム (48件)：
4F100AA01B ,  4F100AA17 ,  4F100AB01B ,  4F100AC10B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CB00B ,  4F100DE01B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ64B ,  4F100GB41 ,  4F100JB20 ,  4F100JC00 ,  4F100JL06 ,  4F100YY00B ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069BB14A ,  4G069BB14B ,  4G069BC09A ,  4G069BC09B ,  4G069BC18A ,  4G069BC22A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC60A ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069CA01 ,  4G069CA11 ,  4G069EA07 ,  4G069EA11 ,  4G069FA03 ,  4G069FB15 ,  4G069FB23 ,  4G069FB24 ,  4G069FC08 ,  4J038AA001 ,  4J038HA416 ,  4J038HA441 ,  4J038HA451 ,  4J038KA04 ,  4J038KA15 ,  4J038NA05
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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