特許
J-GLOBAL ID:200903002932693990

カラーフィルター及びブラックマトリックスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 喜平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-091996
公開番号(公開出願番号):特開平7-005319
出願日: 1993年03月26日
公開日(公表日): 1995年01月10日
要約:
【要約】【目的】 耐光性や平坦化等の品質の向上を図ることができ、延いては、高精細化を実現することができるとともに、生産効率(歩留り)の向上を図ることができるカラーフィルターの製造方法を提供する。【構成】 a)絶縁性基板に、透明導電性薄膜を積層する。b)透明導電性薄膜上に光可溶化型レジストを塗布し、マスクを用いて露光、現像し、露光部分のレジストを除去する。c)ミセル電解法を複数回くり返して、レジストを除去して露出させた透明導電性薄膜上に、複数色の色素層を分離、配置して、所定色素パターンを形成する。
請求項(抜粋):
絶縁性基板上に、ミセル電解法によって複数色の色素層を分離して配置し、所定の色素パターンを形成するカラーフィルターの製造方法において、a)絶縁性基板上の少なくとも表示部全面又は表示画素部を含む連続するストライプパターンに対応する部分に、透明導電性薄膜を積層して形成する工程、b)透明導電性薄膜の全面又は一部上に光可溶化型レジストを塗布し、複数色から選択した一つの色の色素層に対応したパターンを有するマスクを用いて露光し、次いで、現像して露光した部分のレジストを除去する工程、c)ミセル電解法によって、前記一つの色の色素層を、レジストを除去して露出させた透明導電性薄膜上に配置する工程、d)前記光可溶化型レジスト及びミセル電解法を用いて一つの色の色素層を配置する工程と同様の工程を複数回繰り返して、前記一つの色の色素層以外の色の色素層を、それぞれ透明導電性薄膜上に分離して配置する工程、e)透明導電性薄膜上に残留した全ての光可溶化型レジストを除去し、各色の色素層を露出させ、所定の色素パターンを形成する工程、を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。

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