高分子薄膜、高分子薄膜の製造方法、およびバイオチップ

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石井陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-011707
公開番号（公開出願番号）：特開2003-212974
出願日： 2002年01月21日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】【課題】生体適合性を付与するための組織適合剤、免疫、生体反応抑制剤の固定化基質として有用な高分子薄膜と、その製造方法、および水洗い工程等においてプロ-ブ物質、サンプル物質の損失が少なく、これらのプローブ、サンプルを有効に活用することのできるバイオチップを提供する。【解決手段】下記構造式(I)で表される原料を蒸発させ、加熱してモノマーとした後、所定の真空度の蒸着室に導入して基材上に堆積、重合させ高分子薄膜を得る構成の高分子薄膜の製造方法、これにより得られた高分子薄膜、およびバイオチップとした。【化11】〔上記式(I)において、R1 ,R2 は、-CH2NH2 基、またはHを表し、少なくともR1 ,R2 のいずれかは-CH2NH2 基である。〕

請求項（抜粋）：

下記構造式(I)で表される原料を蒸発させ、加熱してモノマーとした後、所定の真空度の蒸着室に導入して基材上に堆積、重合させ高分子薄膜を得る高分子薄膜の製造方法。【化1】〔上記式(I)において、R1 ,R2 は、-CH2NH2 基、またはHを表し、少なくともR1 ,R2 のいずれかは-CH2NH2 基である。〕

IPC (5件)：

C08G 61/02 , C12M 1/00 , C12N 15/09 , G01N 33/53 , G01N 37/00 102

FI (5件)：

C08G 61/02 , C12M 1/00 A , G01N 33/53 M , G01N 37/00 102 , C12N 15/00 F

Fターム (16件)：

4B024AA11 , 4B024BA80 , 4B024CA04 , 4B024HA08 , 4B029AA07 , 4B029AA21 , 4B029AA23 , 4B029BB20 , 4B029CC03 , 4B029CC08 , 4B029FA15 , 4J032CA06 , 4J032CB01 , 4J032CB04 , 4J032CC01 , 4J032CE01

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平1-213385
フルオロアルキル基でコートされたステント、その製造法、及び再狭窄防止への利用
公報種別：公表公報出願番号：特願平11-503729 出願人：シェリングアクチェンゲゼルシャフト
特開昭63-259071

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審査官引用 (11件)

特開平1-213385
特開平1-213385
特開昭63-259071

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