特許
J-GLOBAL ID：200903002933908117
位置合わせ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141913
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349707
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 サンプルショットが非線形の配列誤差を有する場合でも、高いスループットで且つ高精度に位置合わせを行う。【構成】 ウエハW上から選択されたサンプルショットSA1〜SA19について、ステージ座標系(X,Y)での座標値を計測し、計測結果よりEGA方式で各サンプルショットの計算上の配列座標を求める。計測結果から計算上の配列座標を差し引いて得られる非線形誤差量が大きな特異的なサンプルショットSA1,SA7,SA15について、隣接する代替ショットSB1,SB7,SB15のステージ座標系での座標値を計測する。特異的なサンプルショットと代替ショットとの非線形誤差量を比較して、座標計算に用いるショットを決定する。
請求項（抜粋）：
基板上に設定された試料座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせするに際して、前記複数の被加工領域の内、少なくとも3つの被加工領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計計算することによって、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出し、該算出された配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を前記加工位置に対して位置合わせする方法において、前記複数の被加工領域の内、少なくとも4つの予め選択されたサンプル領域の前記静止座標系上における座標位置を計測する第1工程と、該第1工程での計測結果から線形近似により算出した前記サンプル領域の座標位置と前記第1工程で計測された前記サンプル領域の座標位置との差分である非線形誤差量を求める第2工程と、前記サンプル領域の内、前記非線形誤差量が所定の許容値より大きい特異的なサンプル領域の近傍の前記被加工領域よりなる代替領域の前記静止座標系上における座標位置を計測する第3工程と、前記第1工程での計測結果及び前記第3工程での計測結果から線形近似により算出した前記代替領域の座標位置と前記第3工程で計測された前記代替領域の座標位置との差分である非線形誤差量を求める第4工程と、前記特異的なサンプル領域の非線形誤差量と前記代替領域の非線形誤差量とを比較して、実際の配列座標の計算で使用する座標位置を判定する第5工程と、を有し、該第5工程で使用すると判定された座標位置及び前記特異的なサンプル領域以外の前記サンプル領域について計測された座標位置に基づいて、前記複数の被加工領域の前記静止座標系上における配列座標を算出することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 9/00
, G05D 3/12
