特許
J-GLOBAL ID：200903002943500221
薄型ゲル電解質の作製方法及び電気二重層キャパシタ
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-046654
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251194
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 電解質の厚みを薄くして内部抵抗を小さくすることができる薄型ゲル電解質の作製方法を提供する。【解決手段】 ゲル電解質3をテフロンスペーサ2で間隔を確保したガラス板1a、1b間に流し込んで放冷することで当該ゲル電解質を作製するものである。
請求項（抜粋）：
ポリマー、有機溶媒、電解質塩を加熱溶解し、これをガラス板間もしくはシリコーンゴム間に流し込み放冷することで作製することを特徴とする薄型ゲル電解質の作製方法。
IPC (3件)：
H01G 9/038
, H01B 1/12
, H01G 9/155
H01G 9/00 301 D
, H01B 1/12 Z
, H01G 9/00 301 Z
