特許
J-GLOBAL ID:200903002973914659

フッ素フイルムの表面改質方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 香川 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-063111
公開番号(公開出願番号):特開平6-107828
出願日: 1992年03月19日
公開日(公表日): 1994年04月19日
要約:
【要約】【目的】 接着性に優れたフッ素フイルムを提供する、表面改質方法を提供する。【構成】 処理室の前後にエアーシール部を持つエアー・ツー・エアー方式の処理装置を用い、該処理室内で高圧印加電極とフッ素フィルムを支持する対向電極との間に高圧を印加することにより得られる放電によってフッ素フイルムの表面を改質するに際し、前記放電を、He、Ne、Ar、Kr、Xeから選ばれる少なくとも1種の希ガスを70モル%以上と、CO2 と、化学式Cn H2n+2(n=1〜4の整数)で示される炭化水素のうちの少なくとも1種とを含み、かつ酸素濃度が500ppm以下のガス雰囲気中、100〜1000Torrの圧力下で行なう。【効果】 実用上十分な接着力を持つフッ素フイルムが得られる。
請求項(抜粋):
処理室の前後にエアーシール部を持つエアー・ツー・エアー方式の処理装置を用い、該処理室内で高圧印加電極とフッ素フイルムを支持する対向電極との間に高圧を印加することにより得られる放電によってフッ素フイルムの表面を改質する方法であって、前記放電を、He、Ne、Ar、Kr、Xeから選ばれる少なくとも1種の希ガスを70モル%以上と、CO2 と、化学式Cn H2n+2(n=1〜4の整数)で示される炭化水素のうちの少なくとも1種とを含み、かつ酸素濃度が500ppm以下のガス雰囲気中、100〜1000Torrの圧力下で行なうことを特徴とするフッ素フイルムの表面改質方法。
IPC (3件):
C08J 7/00 303 ,  C08J 7/00 CEW ,  C08L 27:12
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平1-304130
  • 特開平1-146930

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