特許

J-GLOBAL ID：200903002983146110

湿式基体処理装置、カセット及び湿式基体処理方法

発明者： 長野 安則
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 山本 孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-111123
公開番号（公開出願番号）：特開平8-288360
出願日： 1995年04月12日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】液体処理槽からカセットを引き上げたとき、カセットに液体が残留し難く、しかも、カセットから基体が脱落しない湿式基体処理装置を提供する。【構成】湿式基体処理装置10は、(イ)液体処理槽12、(ロ)カセット搬送機14、及び、(ハ)基体40を収納したカセット30を吊り下げ、カセット搬送機14によって搬送され、そして、カセット30を液体処理槽12中の液体に浸漬するためにカセット30を昇降させ得るチャック20を備えており、チャック20は、液体表面に対して傾けた状態でカセット30を吊り下げる。チャックは、カセットの側板31の2つの突出部(ボス)32Aに係合するフック部21A,21Bを有し、この突出部32Aと係合する各フック部21A,21Bの部分の水平方向の高さが異なることが好ましい。

請求項（抜粋）：

(イ)液体処理槽、(ロ)カセット搬送機、及び、(ハ)基体を収納したカセットを吊り下げ、カセット搬送機によって搬送され、そして、該カセットを液体処理槽中の液体に浸漬するために該カセットを昇降させ得るチャック、を備えた湿式基体処理装置であって、該チャックは、液体表面に対して傾けた状態でカセットを吊り下げることを特徴とする湿式基体処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/68 ,  B25J 5/02 ,  B65G 49/04 ,  B66C 1/34 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (7件)：

H01L 21/68 A ,  B25J 5/02 Z ,  B65G 49/04 C ,  B66C 1/34 K ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/306 J