特許
J-GLOBAL ID:200903002984080695
電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上柳 雅誉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-254842
公開番号(公開出願番号):特開2003-066426
出願日: 2001年08月24日
公開日(公表日): 2003年03月05日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、基板上に作り込まれる配線やトランジスタ等を保護膜で保護することにより装置寿命を延ばしつつ、当該保護膜の存在によって表示画像の明るさを向上させる。【解決手段】 電気光学装置は、基板(10)上に、ITO膜からなる表示用電極(9a)と、この下層側に隣接して形成された、窒化シリコン膜、酸窒化シリコン膜等の窒素を含むシリコン化合物からなる保護膜(501)と、この下層側に形成された酸化シリコン膜からなる層間絶縁膜(43)と、更にこの下層側に形成され且つ表示用電極に接続された配線及び電子素子のうち少なくとも一方とを備える。
請求項(抜粋):
基板上に、画像表示領域に配置されたITO(Indium Tin Oxide:インジウム・ティン・オキサイド)膜からなる表示用電極と、該表示用電極の下層側に隣接して形成された窒素を含むシリコン化合物からなる下側保護膜と、該下側保護膜の下層側に形成された酸化シリコン膜からなる層間絶縁膜と、該層間絶縁膜の下層側に形成され且つ前記表示用電極に接続された配線及び電子素子のうち少なくとも一方とを備えたことを特徴とする電気光学装置。
IPC (6件):
G02F 1/1333 505
, G02F 1/1343
, G02F 1/1368
, G09F 9/30 330
, G09F 9/35
, H01L 29/786
FI (6件):
G02F 1/1333 505
, G02F 1/1343
, G02F 1/1368
, G09F 9/30 330 Z
, G09F 9/35
, H01L 29/78 619 A
Fターム (65件):
2H090HA03
, 2H090HA04
, 2H090HB03X
, 2H090HB06X
, 2H090HD05
, 2H090LA01
, 2H090LA04
, 2H092GA28
, 2H092JA01
, 2H092JA21
, 2H092KA18
, 2H092KB04
, 2H092MA05
, 2H092MA07
, 2H092NA17
, 5C094AA10
, 5C094AA31
, 5C094AA38
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA14
, 5C094DA15
, 5C094EA04
, 5C094EA07
, 5C094FB12
, 5C094JA08
, 5F110AA21
, 5F110BB02
, 5F110BB04
, 5F110CC02
, 5F110DD02
, 5F110DD03
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD25
, 5F110EE09
, 5F110EE45
, 5F110FF02
, 5F110FF23
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG25
, 5F110GG47
, 5F110HL03
, 5F110HL05
, 5F110HL08
, 5F110HM15
, 5F110NN03
, 5F110NN04
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN25
, 5F110NN26
, 5F110NN28
, 5F110NN35
, 5F110NN40
, 5F110NN44
, 5F110NN46
, 5F110NN54
, 5F110NN72
, 5F110NN73
, 5F110QQ19
引用特許:
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