特許

J-GLOBAL ID：200903002994326455

耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法

発明者： 浜田 隆樹 ,  早川 徹治
出願人/特許権者： 住友特殊金属株式会社
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-179077
公開番号（公開出願番号）：特開平5-205923
出願日： 1984年12月24日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：

【要約】【目的】 希土類・ボロン・鉄を主成分とする新規な永久磁石材料の耐食性の改善を目的とし、腐食性薬品等を使用、残留させることなく、密着性、防食性にすぐれた耐食性薄膜を、永久磁石材料表面に均一厚みで設けることができる製造方法の提供。【構成】 主相が正方晶からなるR-Fe-B系永久磁石体表面に、イオン蒸着薄膜形成法(IVD)により、Al,Ni,Cr,Cu,Co等の金属あるいはその合金、またSiO2,Al2O3,Cr2O3,TiN,AlN,TiC等の耐食性薄膜層を形成被覆する。【効果】 耐食性薄膜層は膜厚が所要厚みで格段にすぐれた均一度が得られ、永久磁石体の酸化が確実に防止されており、磁気特性の劣化がない。

請求項（抜粋）：

真空容器内で薄膜用原料の蒸発物を噴射、イオン化して加速電圧で加速し、R(但しRはYを含む希土類元素のうち少なくとも1種)8原子%〜30原子%、B2原子%〜28原子%、Fe42原子%〜90原子%を主成分とし主相が正方晶からなる永久磁石体表面に付着及びイオン照射して、耐食性薄膜を形成被覆することを特徴とする耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法。

IPC (3件)：

H01F 1/053 ,  C22C 38/00 303 ,  H01F 1/08