特許

J-GLOBAL ID：200903002996790264

シリコン膜およびその形成方法、ならびに、液晶表示装置、有機EL表示装置、電子機器および機器

発明者： 古沢 昌宏 ,  青木 敬
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-119100
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318119
出願日： 2002年04月22日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、シラン化合物からなる原料を用いて、工程数を増加させることなく、良好なシリコン膜を形成することにある。【解決手段】 本発明のシリコン膜20の形成方法は、(a)基板10上に、光重合性を有するシラン化合物からなる原料を塗布し、(b)所定のマスク30を用いて光を照射することにより、選択的に高次シラン化合物20bを形成すること、を含む。

請求項（抜粋）：

(a)基板上に、光重合性を有するシラン化合物からなる原料を塗布し、(b)光をパターン照射することにより、選択的に高次シランを形成すること、を含む、シリコン膜の形成方法。

IPC (6件)：

H01L 21/208 ,  C01B 33/02 ,  G02F 1/1368 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H05B 33/14

FI (5件)：

H01L 21/208 Z ,  C01B 33/02 D ,  G02F 1/1368 ,  H05B 33/14 A ,  H01L 29/78 618 A

Fターム (61件)：

2H092JA24 ,  2H092JB22 ,  2H092JB31 ,  2H092JB56 ,  2H092MA07 ,  2H092MA10 ,  2H092MA13 ,  2H092MA17 ,  2H092MA30 ,  2H092PA01 ,  2H092PA06 ,  3K007DB03 ,  3K007GA00 ,  4G072AA03 ,  4G072BB09 ,  4G072FF06 ,  4G072GG03 ,  4G072HH03 ,  4G072HH06 ,  4G072HH07 ,  4G072HH10 ,  4G072HH11 ,  4G072MM01 ,  4G072NN21 ,  4G072RR07 ,  4G072RR30 ,  4G072UU01 ,  5F053AA06 ,  5F053BB09 ,  5F053DD01 ,  5F053GG03 ,  5F053HH10 ,  5F053LL10 ,  5F053PP20 ,  5F053RR04 ,  5F110AA16 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110GG41 ,  5F110GG42 ,  5F110GG44 ,  5F110GG58 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK25 ,  5F110HK31 ,  5F110HK32 ,  5F110HK42 ,  5F110PP02 ,  5F110PP03 ,  5F110QQ01 ,  5F110QQ06