特許

J-GLOBAL ID：200903002999850780

半導体基板の洗浄液

発明者： 清水 英貴 ,  田中 一成 ,  下村 正 ,  東 友之
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-211235
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025965
出願日： 2000年07月12日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：

【要約】【課題】 表面にタングステン等の金属膜を有する半導体基板の洗浄液を提供する。【解決手段】 過酸化水素およびシクロヘキサン環を骨格に持つアミンを含有する金属膜を有する半導体基板の洗浄液。

請求項（抜粋）：

過酸化水素およびシクロヘキサン環を骨格に持つアミンを含有する金属膜を有する半導体基板の洗浄液。

IPC (8件)：

H01L 21/304 647 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/36 ,  C11D 17/08 ,  C23G 5/024 ,  C23G 5/036 ,  H01L 21/306

FI (8件)：

H01L 21/304 647 A ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/36 ,  C11D 17/08 ,  C23G 5/024 ,  C23G 5/036 ,  H01L 21/306 F

Fターム (22件)：

4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DB01 ,  4H003EA20 ,  4H003EB13 ,  4H003EB24 ,  4H003EE04 ,  4H003FA07 ,  4H003FA15 ,  4H003FA21 ,  4K053PA06 ,  4K053PA09 ,  4K053PA10 ,  4K053QA04 ,  4K053RA13 ,  4K053RA40 ,  4K053RA52 ,  4K053RA59 ,  4K053RA62 ,  5F043AA40 ,  5F043BB30 ,  5F043GG10