特許
J-GLOBAL ID：200903003018952852
マスク検証装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-010286
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209012
出願日： 1997年01月23日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 半導体集積回路の図形のうち、幅が特定の値CDである部分を横切る分割線を抽出できず、マスク製造の精度を低下させていた。【解決手段】 半導体集積回路の図形データを入力するデータ入力部1、図形データを台形分割している分割線を抽出する分割線抽出部2、分割線によって分割された幅が微小値以下である台形を検出する微小幅図形検出部3、特定の値CDをもつ部分が分割線で区切られている台形を検出するCD幅図形検出部4、および検出された微小幅図形およびCD幅図形を出力するデータ出力部5を備えている。
請求項（抜粋）：
半導体集積回路を構成している各図形を分割線によって上辺と下辺とが平行な台形に区切ることにより成される図形データを検証対象として入力する手段、上記分割線を抽出する手段、上記図形のうち、幅が特定の値CD(=Critical Dimension;マスク製造上の条件により予め定められた幅)である図形を抽出する手段、および上記抽出された分割線のうち、上記特定の値CDを横切る方向に分割している分割線を検出する手段を備えたことを特徴とするマスク検証装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 Q
, H01L 21/30 502 V
