特許
J-GLOBAL ID：200903003024207611
高周波加熱装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277590
公開番号（公開出願番号）：特開平8-135981
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 水蒸気の発生に掛かる手段が充分に水を吸収し、且つ水蒸気が被加熱物たる食品にムラ無く印加されると同時に、高周波の印加も更にムラのない、調理性能の良い高周波加熱と同時に、蒸気発生手段に吸水不能部分が発生するのを防止し、装置の過加熱を防止し安全性を向上させることを目的としている。【構成】 装置本体1内に設けた加熱室3に対し、高周波発生手段6の発生する高周波を加熱室3内に照射するように高周波励振手段5を設け、加熱室内2には、高周波発生手段6と被加熱物2との間に、水を含浸させた吸水体16を収納した蒸気容器8を着脱自在に設け、更に、蒸気容器8と前記高周波発生手段6との間に、高周波の撹拌手段17を介在させると共に、蒸気容器8の一部に設けた開口部10より水蒸気を加熱室3内に放出し、高周波及び水蒸気によって加熱調理を行う構成とした。
請求項（抜粋）：
被加熱物を加熱する加熱室と、前記加熱室の壁面に設けられた給電口と、前記給電口を通して前記加熱室に高周波電力を給電する高周波発生手段と、前記給電口に設けられた高周波の撹拌手段と、前記加熱室と前記給電口との間に着脱自在に設けられ加熱時に蒸気を発生する誘電材料からなる蒸気容器と、前記蒸気容器に収納される水を吸収する吸水体とを備え、加熱調理を行なうときは、前記吸水体を含水して行う構成とした高周波加熱装置。
IPC (2件)：
F24C 7/02
, F24C 1/00 320
