特許
J-GLOBAL ID:200903003024941773
新規なマイクロパターン偏光素子の製造方法及びこれを用いる立体表示液晶表示装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
佐伯 憲生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-067188
公開番号(公開出願番号):特開2002-357720
出願日: 2002年03月12日
公開日(公表日): 2002年12月13日
要約:
【要約】【課題】貼合のような極めて高い位置決め精度を必要とせず、二色性色素化合物の部分的配向に優れているマイクロパターン偏光素子の製造方法を確立すること。【解決手段】基板上に光活性基を有する液晶性高分子薄膜を形成し、該薄膜に直線偏光を照射し、ついで別のマイクロパターン状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を照射した後、該薄膜上に二色性分子をマイクロパターン状に配列させる工程において、基板に対して垂直方向に0.05MPa〜1.0MPaの圧力が懸かるように二色性分子溶液をロールコーター、フレキソ印刷機、スクリーン印刷機のような印圧の低い印刷機を用いて塗布する偏光素子の製造方法。
請求項(抜粋):
基板上に光活性基を有する液晶性高分子薄膜を形成し、該薄膜に直線偏光を照射し、ついで別のマイクロパターン状のマスクを介して異なる偏光軸を有する直線偏光を照射した後、該薄膜上に二色性分子をマイクロパターン状に配列させる工程において、基板に対して垂直方向に0.01MPa〜1.0MPaの圧力が懸かるように二色性分子溶液を塗布する偏光素子の製造方法
IPC (3件):
G02B 5/30
, G02B 27/26
, G02F 1/1335 510
FI (3件):
G02B 5/30
, G02B 27/26
, G02F 1/1335 510
Fターム (15件):
2H049BA05
, 2H049BA22
, 2H049BB02
, 2H049BC08
, 2H049BC09
, 2H049BC22
, 2H091FA07X
, 2H091FA07Z
, 2H091FB02
, 2H091FC23
, 2H091GA01
, 2H091LA12
, 2H091LA17
, 2H091LA30
, 2H091MA01
引用特許:
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