真空処理装置及び基板の処理方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-165719
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064977
出願日： 1983年11月28日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】プロセス変更やライン変更に対応して真空処理装置のシステム構成あるいは編成を自由に提供する。【解決手段】基板30を一枚づつ処理する複数の真空処理室20と、真空排気され前記複数の真空処理室に連通するバッファ室10と、該バッファ室内に設けられた基板搬送手段とを備えた真空処理装置において、基板処理モードに応じて、パラレル処理モード時には、複数の基板を前記バッファ室を経由して各々前記複数の処理室に搬送してパラレルに処理し、シリーズ処理モード時には、1つの基板を前記バッファ室を経由して前記複数の処理室に順次搬送してシリーズに処理する。

請求項（抜粋）：

基板を一枚づつ処理する複数の真空処理室と、真空排気され前記複数の真空処理室に連通するバッファ室と、該バッファ室内に設けられた基板搬送手段とを備えた真空処理装置において、基板処理モードに応じて、パラレル処理モード時には、複数の基板を前記バッファ室を経由して各々前記複数の処理室に搬送してパラレルに処理し、シリーズ処理モード時には、1つの基板を前記バッファ室を経由して前記複数の処理室に順次搬送してシリーズに処理することを特徴とする真空処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 , B01J 3/00 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (5件)：

H01L 21/68 A , B01J 3/00 J , H01L 21/203 Z , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭56-019635
特開昭60-115216
特開昭57-149748

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